AI와 자율주행 분야를 포함한 반도체 시장의 폭발적 성장에 힘입어 반도체 산업에 전 지구적 관심이 집중됨을 목도하고 있습니다.

저희 차세대 리소그래피 학술대회에서는 그간에 많은 호응을 얻었던 Short Course를 학술대회와 분리하여 “차세대 리소그래피 학술대회 단기 강좌”로 개최하게 되었음을 알려드립니다. 6/22(화) ~ 6/25(금)의 나흘간 실시되며, 팬데믹에 따라 대면 비대면 동시 진행됩니다.

기존의 5개 강연, 즉, Photoresists, Optics for MI, Optical Lithography, Machine Learning 기반 Computational Lithography, Photomask 기술은 최신 기술 성과와 동향을 반영하여 계속 실시하며, 금년에 새롭게 EUV Lithography, AI, 그리고 반도체 소자 및 공정의 3개 강좌를 추가하여 내실을 도모하였습니다.

반도체 리소그래피 관련 종사자와 학생, 그리고 관심있는 일반인들께서 참가하시면 분야별 최고 전문가로부터 단기간에 해당 기술의 기초와 최신 트렌드를 조망할 수 있을 것입니다.

아무쪼록 차세대 리소그래피 학술대회 단기 강좌가 기술에 대한 갈증을 해소하고 반도체 강국으로서의 저변 확대에 기여할 것을 바라며 많은 성원과 참여를 부탁드립니다.

감사합니다.